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溅射镀膜膜层的优点有哪些?

来源: | 发布时间:2014-07-01 | 浏览次数:

溅射镀膜膜层的优点有哪些?以溅射的办法来进行真空镀膜,因为它镀膜方式不同,一样的镀材所制备出来的薄膜效果会不同,虽肉眼不能看出,但确实有一定优势。

  膜厚稳定性较好,因为溅射镀膜膜层的厚度和靶电流以及放电电流具有非常大的关系,电流越高,溅射效率也就越大,相同时间内,所镀膜层的厚度相对就大了,因为只要把电流数值控制好,需要镀多厚,或者多薄的膜层都可以了,当然这个厚度是在可允许的范围内,而且控制好电流,无论重复镀多少次,膜层厚度都不会变化,膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。

  膜层的结合力强,在溅射过程里,有部分电子会撞击到基材表面,激活表面原子,且产生清洁作用,而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级,带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时,有更多的能量可以传递到基材上,产生更多的热能,使被电子激活的原子加速运动,与部分镀材原子更早互相溶合到一起,其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜,加强了膜层与基材的结合力。

  镀材的范围广泛,因为溅射膜是通过氩离子高速轰击使镀材溅射出来,不像蒸发镀膜由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材,而溅射镀膜几乎所有固体的物质都可以成为镀材。

  由上所述,能看出溅射真空镀膜确实要将蒸发真空镀膜的效果较好,其原理不同决定着溅射制备的膜层厚度更稳定,结合力更强,镀材的范围也就更广。

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